ICP MS 300電感耦合等離子體質譜儀技術配置
PlasmaMS 300電感耦合等離子體質譜儀介紹
l 敞開式進樣系統，配備外部可裝卸的玻璃同心霧化器與玻璃旋流霧室。
l 可根據需要選配半導體制冷；
l 包含一個插入式自定位的標準整體型石英炬管，炬管被安裝在一個緊湊的法拉第網格屏蔽箱內，阻止高頻輻射。
l 在炬箱門上帶有一個防止紫外輻射的觀察窗口。
l 氣體屏蔽裝置阻止腐蝕性氣體侵蝕質譜儀中的一些關鍵部件。
l 4通道12滾輪的蠕動泵，與進樣系統緊湊的安裝，速度可變，由計算機控制（最大到100rpm）。
l 可選配自動稀釋裝置，能夠極大的增加儀器的耐高鹽性能；
l 27.12MHz；計算機控制功率調整，從100W到2000W連續可調，最小調節間隔1W。
l 對于不同種類的樣品，最優化功率設置被定義和存儲在每個相應的方法中。
l 三級真空系統配置了高級的分流式分子渦輪泵，擁有極高的氣體排氣量，頂端開啟式真空室，更容易接近分析器組件。
l 真空室內部所有元件的電路連接都采用了固定在真空室頂蓋上的金彈簧頂針接頭，減少了連線，使RF高頻泄漏降到最小，并確保電路通暢。
l 從大氣壓開始，30分鐘即可抽到可工作狀態。
l 真空度：關閉滑閥<1x 10-4Pa；操作儀器時<4x 10-4Pa
l 具備真空保護功能；
l 具有真空腔體快速放氣功能；
l 離子雙離軸光學系統設計；
l 透鏡組：重離軸偏轉的離子透鏡組，具有極低的背景噪聲，提供極高的信噪比。
l 光子和中性粒子的消除：第二重離軸偏轉透鏡，能夠使動態反應池與質量分析器與之間離軸，進一步降低背景；
l 四極桿配置：12mm超長的四級桿配置，采用了方便的非對稱定位安裝支架系統，避免安裝錯位。
l 四極桿材料：鉬和高純氧化鋁陶瓷支架。
l 四極桿設置時間：動態設置最小設置時間1ms
l 質量數范圍：2到260amu
l 四極桿電源采用DDS（直接數字頻率合成）技術，實現頻率自動匹配。
l 能夠快速的進行自動質量軸校正，質量軸分辨率可自行設置，看分別保存為高、中、低三檔分辨率；
l 動能歧視技術；使用碰撞氣體（He）、混合氣；
l 反應池技術：可根據需要選擇H2，CH4，NH3等，便于方法的開發；
l 有效地消除由樣品基體或等離子源引起的各種多原子離子干擾，同時保持碰撞反應池內的副產物最小化。
l 不需要更多復雜的電路裝置。
l 雙排分列式打拿電極的電子倍增器，可以同時在脈沖和模擬模式下工作。
l 先進的數模信號轉換電路，同時配有而新穎的檢測器內的變壓器系統，提供快速的模擬信號采集，增加信噪比，改善檢測器在長期使用下的穩定性。
l 檢測器采用插拔式設計，易于更換。
l 測量范圍：大于9個數量級
l 多通道分析器：50,000 通道。
l 循環累計：多通道緩沖器數據采集，允許快速不間斷的數據采集。
l 具備死時間校正功能和PA校正；
l 在模擬和脈沖兩種模式中，最小駐留時間為1ms。
l 跳峰模式，全掃模式，峰掃描模式，在一次樣品數據采集中，可選用混合掃描數據采集模式，使用集成的軟件進行時序分析。
l 通風速度~250m3/h，在儀器抽風口處的氣流速度~8.8m/s，抽風口外徑為90cm
l 通風系統未開情況下，儀器運行具有溫度chao高報警功能；
l 室內氣溫15~30℃，氣溫變化每小時不超過3℃，推薦室溫22℃。
l 相對濕度20~70%，無冷凝。推薦相對濕度40%。
l 儀器應當置于無煙，無腐蝕性的環境下，無振動，不受陽光直射，遠離易燃易爆危險品。
主機 | 機械泵 | 穩壓電源 | 循環冷卻水 | |
寬×高×深（cm） | 120×80×70 | 66.5×37.7×24.5 | 46.5*31*43.5 | 67×89×47 |
重量（Kg） | 240 | 73 | 30 | 72 |
電壓（V） | 220 | 220 | 220 | 220 |
電流（A） | 25 | 4 | 45.5 | 8.3 |
功率（KW） | 5 | 1.3 | 10 | 2.9 |
散熱量（W） | 3000 | 500 | 500 | 4000 |
插座 | 32A兩路空開 1個，備注不帶漏電保護 | 與主機連接 | 帶地線 1個 | 16A 1個 |
深圳三莉
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